真空镀膜技术FCVA PVD CVD比较

2019年09月20日

真空镀膜技术FCVA PVD CVD比较

 

FCVA是英文Filtered cathodic vacuum arc的简称,是过滤阴极真空电弧

PVD是英文 Physical Vapor Deposition的简称 物理气象沉积

CVD英文Chemical Vapor Deposition的简称,是化学气相沉积

 

FCVA镀膜粒子为100%离化的等离子。在无需加热被镀工件的条件下,经过电磁场交互作用后,FCVA镀膜离子与普通镀膜PVDCVD镀膜技术相比具有更高,更均匀的能量,从而在低温条件下可在工件表面形成致密、超高硬度、超强附着力的膜层,解决了其他传统镀膜技术不可避免的由于高温沉积而引发的众多问题。

 

FCVA过滤阴极真空电弧技术的优点

1100% 等离子体镀膜粒子,能量及方向可调

2膜层致密、高硬度、高均匀性

3超强附着力

4室温沉积

 

FCVA 镀膜源特点

1纯等离子体沉积技术

2镀膜粒子能量及方向可调

3特殊阴极/ 阳极设计,确保电弧稳定性

4自动割靶设计(石墨靶材)

5室温沉积

6全自动控制,友好的用户界面

7实时工艺监控

8用户自定义镀膜工艺参数

9支持参数、操作数据输出

10动态实时补偿模式

 

 

PVD (磁控溅射)

CVDPECVD

FCVA

镀膜粒子

原子

原子反应基团

离子

镀膜能量

~0.1eV

~1eV

20to5000eV

工作气压

7E-1Pa

1Pa

1E-3Pa

附着力

普通

普通

很好

膜层密度

~2.2g/cm3

~2.0g/cm3

~3.4g/cm3

镀膜均匀性

不可调

不可调

可调

镀膜原材料

固体

气体

固体

镀膜温度

高温

高温

室温

 

来源:山本焊接波纹管(上海)有限公司